@prefix nht: <http://data.loterre.fr/ark:/67375/NHT> .
@prefix skos: <http://www.w3.org/2004/02/skos/core#> .
@prefix isothes: <http://purl.org/iso25964/skos-thes#> .
@prefix rdfs: <http://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#> .

nht:-DJCWDKFC-J
  skos:prefLabel "microalliage"@fr, "microalloying"@en, "microaleación"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-BTFB170X-N
  skos:prefLabel "modified chemical vapor deposition"@en, "dépôt chimique en phase vapeur modifié"@fr, "deposición química en fase vapor modificada"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-V71LD5QT-M
  skos:prefLabel "mecanizado por ultrasonidos"@es, "usinage par ultrasons"@fr, "ultrasonic machining"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-LTJZNRT6-3
  skos:prefLabel "método de Langmuir-Blodgett"@es, "méthode de Langmuir-Blodgett"@fr, "Langmuir-Blodgett method"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-CSKPXPR6-9
  skos:prefLabel "infiltration chimique en phase vapeur"@fr, "infiltración química en fase vapor"@es, "chemical vapor infiltration"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-FGL6FB7Z-H
  skos:prefLabel "fotolitografía"@es, "photolithography"@en, "photolithographie"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-WQTTZJ8F-K
  skos:prefLabel "atomizing"@en, "atomización"@es, "atomisation"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-DQR24V5J-Q
  skos:prefLabel "codeposición"@es, "codépôt"@fr, "codeposition"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-N753F8BJ-D
  skos:prefLabel "crecimiento a partir del estado sólido"@es, "growth from solid state"@en, "méthode à l'état solide"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-Q3Z25V82-J
  skos:prefLabel "moldeo en arena"@es, "sand molding"@en, "moulage en sable"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-LPKJDTR7-2
  skos:prefLabel "crecimiento cristalino en solución"@es, "croissance cristalline en solution"@fr, "crystal growth from solution"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-XLXQFQ60-T
  skos:prefLabel "cold working"@en, "trabajo en frío"@es, "travail à froid"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-Regroupement_par_type_sémantique
  skos:prefLabel "Regroupement par type sémantique"@fr, "Grouping by semantic type"@en ;
  a isothes:ConceptGroup, skos:Collection ;
  isothes:subGroup nht:-Conception .

nht:-C6F6ZR10-J
  skos:prefLabel "technologie LOCOS"@fr, "LOCOS technology"@en, "tecnología LOCOS"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-BRX141PH-K
  skos:prefLabel "electrocristalización"@es, "électrocristallisation"@fr, "electrocrystallization"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-S7PV4PX5-K
  skos:prefLabel "liquid encapsulation"@en, "encapsulación líquida"@es, "encapsulation liquide"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-M3ZLVQB9-L
  skos:prefLabel "epitaxia en fase sólida"@es, "épitaxie en phase solide"@fr, "solid-phase epitaxy"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-Z3PBH1HX-8
  skos:prefLabel "crecimiento a partir de vapor"@es, "méthode en phase vapeur"@fr, "growth from vapor"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-BTX8NS00-0
  skos:prefLabel "electroforesis"@es, "électrophorèse"@fr, "electrophoresis"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-X0JH8P3X-7
  skos:prefLabel "procédé pyrosol"@fr, "pyrosol process"@en, "proceso pirosol"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-R4433332-5
  skos:prefLabel "ECAP"@en, "extrusion angulaire à section constante"@fr, "extrusión angular de canal igual"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-FVJJ80BF-1
  skos:prefLabel "growth from melt"@en, "crecimiento a partir de fundido"@es, "méthode en phase fondue"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-B03KDL3B-V
  skos:prefLabel "evaporación laser"@es, "évaporation par laser"@fr, "laser vaporization"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-L4CSWH8R-N
  skos:prefLabel "laser deposition"@en, "dépôt par laser"@fr, "deposición por láser"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-HKVRL2WP-L
  skos:prefLabel "spray coating"@en, "dépôt par projection"@fr, "deposición por pulverización"@es ;
  a skos:Concept .

nht:
  skos:prefLabel "Vocabulario de física de la materia condensada"@es, "Vocabulaire de physique de l'état condensé"@fr, "Condensed matter physics vocabulary"@en ;
  a skos:ConceptScheme .

nht:-N9TPQH0V-5
  skos:prefLabel "procédé de dépôt"@fr, "deposition process"@en, "procedimiento de revestimiento"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-SHGXWL6T-3
  skos:prefLabel "hydrodynamic method"@en, "méthode hydrodynamique"@fr, "método hidrodinámico"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-Z0B3FD9R-5
  skos:prefLabel "dépôt par jet d'agrégats ionisés"@fr, "deposición de haz de racimo ionizado"@es, "ionized cluster-beam deposition"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-K4VDCB6Q-4
  skos:prefLabel "miniaturization"@en, "miniaturización"@es, "miniaturisation"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-WJ7HBS1X-T
  skos:prefLabel "SILAR method"@en, "méthode SILAR"@fr, "método SILAR"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-QMGXJH74-H
  skos:prefLabel "moldeo forjado"@es, "squeeze casting"@en, "moulage par forgeage"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-B4SQVGVV-2
  skos:prefLabel "infiltration"@fr, "infiltration"@en, "infiltración"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-BH7KNBG9-9
  skos:prefLabel "espesor de capa"@es, "épaisseur de couche"@fr, "layer thickness"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-JBDZX1RT-5
  skos:prefLabel "condensación por haz químico"@es, "condensation par faisceau chimique"@fr, "chemical-beam condensation"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-RMZK6Q3V-7
  skos:prefLabel "formacíon de motivo"@es, "formation de motif"@fr, "patterning"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-QGL5L2D7-6
  skos:prefLabel "hot wall growth"@en, "méthode de la paroi chaude"@fr, "método de la pared caliente"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-LR4RR5SQ-W
  skos:prefLabel "mechanical joint"@en, "assemblage mécanique"@fr, "junta mecánica"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-M1BHXL9M-4
  skos:prefLabel "electron-beam lithography"@en, "litografía por haz de electrones"@es, "lithographie par faisceau d'électrons"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-LR3CL109-H
  skos:prefLabel "cocimiento rápido"@es, "cuisson rapide"@fr, "fast firing"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-JXGDS4TT-P
  skos:prefLabel "kinking"@en, "torcedura"@es, "coudure"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-Q3JQ9QDP-R
  skos:prefLabel "pulvérisation réactive"@fr, "pulverización reactiva"@es, "reactive sputtering"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-WRS07944-S
  skos:prefLabel "deposición por plasma"@es, "dépôt par plasma"@fr, "plasma deposition"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-QCXRH284-5
  skos:prefLabel "pulvérisation par irradiation"@fr, "sputtering"@en, "pulverización por irradiación"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-PGWKF7V5-K
  skos:prefLabel "crecimiento a partir de líquido"@es, "méthode en phase liquide"@fr, "growth from liquid"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-Conception
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  a isothes:ConceptGroup, skos:Collection ;
  skos:inScheme nht: ;
  rdfs:comment "Number of members: 233."@en, "Nombre de membres : 233."@fr ;
  isothes:superGroup nht:-Regroupement_par_type_sémantique ;
  skos:prefLabel "Design"@en, "Conception"@fr .

nht:-CPC9BXNR-4
  skos:prefLabel "flash smelting process"@en, "procedimiento de fusión rápida"@es, "procédé de fusion éclair"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-PJWJLZ59-Z
  skos:prefLabel "pressure infiltration"@en, "infiltration sous pression"@fr, "infiltración por presión"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-PZX636C0-H
  skos:prefLabel "deposición por conversión"@es, "conversion coating"@en, "dépôt par conversion"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-HL0FSB18-S
  skos:prefLabel "método electroquímico"@es, "méthode électrochimique"@fr, "electrochemical method"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-WMSRR4F4-C
  skos:prefLabel "microencapsulación"@es, "microencapsulation"@fr, "microencapsulation"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-S4L7D677-H
  skos:prefLabel "pulsed laser deposition"@en, "dépôt par laser pulsé"@fr, "deposición por láser pulsado"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-RW5330F2-J
  skos:prefLabel "méthode de Stöber"@fr, "método de Stober"@es, "Stober method"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-SDTWFC0J-B
  skos:prefLabel "replicación"@es, "réplication"@fr, "replication"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-TH6LP88B-G
  skos:prefLabel "placage"@fr, "plating"@en, "enchapado"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-R6QWK63F-5
  skos:prefLabel "hot working"@en, "travail à chaud"@fr, "trabajo en caliente"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-K5G7HBCD-H
  skos:prefLabel "método de Langmuir"@es, "méthode de Langmuir"@fr, "Langmuir method"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-KQ1WF0XZ-5
  skos:prefLabel "tecnología coplanar"@es, "coplanar technology"@en, "technologie coplanaire"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-DRN75P4P-F
  skos:prefLabel "TSSG method"@en, "méthode TSSG"@fr, "método TSSG"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-NWR3FQ9L-M
  skos:prefLabel "forging"@en, "forja"@es, "forgeage"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-FHC7425V-M
  skos:prefLabel "proceso húmedo"@es, "procédé par voie humide"@fr, "wet process"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-ZJZXS8KM-9
  skos:prefLabel "explosive forming"@en, "formage par explosion"@fr, "conformado por explosión"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-WSVFVR8N-Z
  skos:prefLabel "IBAD method"@en, "méthode IBAD"@fr, "método IBAD"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-QQCNR7KC-3
  skos:prefLabel "épitaxie de couche atomique"@fr, "atomic layer epitaxial growth"@en, "epitaxia de capa atómica"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-W14CSKTM-4
  skos:prefLabel "métallothermie"@fr, "metallothermy"@en, "metalotermia"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-M3W8KKKD-0
  skos:prefLabel "electron-beam evaporation"@en, "evaporación por haz de electrones"@es, "évaporation par faisceau électronique"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-TKGRC1RW-1
  skos:prefLabel "molecular beam epitaxy"@en, "epitaxia de haces moleculares"@es, "épitaxie par jet moléculaire"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-DHD099H1-N
  skos:prefLabel "pulverización de haz iónico"@es, "ion-beam sputtering"@en, "pulvérisation par faisceau ionique"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-FJHR66H7-M
  skos:prefLabel "proceso sol gel"@es, "sol-gel process"@en, "procédé sol-gel"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-RJC6HB6F-3
  skos:prefLabel "ceramic metal sealing"@en, "soldadura cerámica-metal"@es, "soudure céramique-métal"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-KJDFSWFF-G
  skos:prefLabel "electron-bombardment evaporation"@en, "evaporación por bombardeo electrónico"@es, "évaporation par bombardement électronique"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-JKB4XWFV-7
  skos:prefLabel "conformado"@es, "formage"@fr, "forming"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-L5FRQRGM-W
  skos:prefLabel "revestimiento por bombardeo iónico"@es, "dépôt par bombardement ionique"@fr, "ion-beam coating"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-THDQK8X6-J
  skos:prefLabel "méthode de couche atomique"@fr, "método de capa atómica"@es, "atomic layer method"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-RJ515FN5-W
  skos:prefLabel "Kyropoulos method"@en, "méthode de Kyropoulos"@fr, "método de Kyropoulos"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-Q4TTVB36-G
  skos:prefLabel "método hidrotermal"@es, "méthode hydrothermale"@fr, "hydrothermal growth"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-G4LMHVVV-R
  skos:prefLabel "deposición electroforética"@es, "dépôt électrophorétique"@fr, "electrophoretic deposition"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-N1J6V3R5-R
  skos:prefLabel "manufacturing process"@en, "procedimiento de fabricación"@es, "procédé de fabrication"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-LBMV1S6M-2
  skos:prefLabel "synthèse par combustion"@fr, "síntesis de combustión"@es, "combustion synthesis"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-Q0DG8KF8-P
  skos:prefLabel "thermite process"@en, "procédé thermite"@fr, "proceso termita"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-LB37W99T-K
  skos:prefLabel "melt infiltration"@en, "infiltration à l'état fondu"@fr, "infiltración de fusión"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-DDD01JLR-3
  skos:prefLabel "crecimiento cristalino en estado sólido"@es, "solid state crystal growth"@en, "croissance cristalline en phase solide"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-RMZ5HKMK-G
  skos:prefLabel "dépôt en phase vapeur"@fr, "vapor deposition"@en, "deposición en fase vapor"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-BF18Q9VB-K
  skos:prefLabel "electrospinning"@es, "électrofilage"@fr, "electrospinning"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-HB49D56T-T
  skos:prefLabel "método de Verneuil"@es, "Verneuil method"@en, "méthode de Verneuil"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-RVLXVKKM-S
  skos:prefLabel "electron-beam deposition"@en, "deposición por haz de electrones"@es, "dépôt par faisceau électronique"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-MZPJ175V-G
  skos:prefLabel "cristalización en solución"@es, "solution crystallization"@en, "cristallisation en solution"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-NVLPKW9L-4
  skos:prefLabel "crecimiento cristalino"@es, "croissance cristalline"@fr, "crystal growth"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-V1B4P3P5-S
  skos:prefLabel "contact printing"@en, "tirage par contact"@fr, "tiraje por contacto"@es ;
  a skos:Concept .

nht:-G7F9RRC5-R
  skos:prefLabel "síntesis solvotermal"@es, "solvothermal synthesis"@en, "synthèse solvothermale"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-VX8L8MN1-0
  skos:prefLabel "zone-melting recrystallization"@en, "recristalización por fusión zonal"@es, "recristallisation par fusion de zone"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-M6813Q5H-1
  skos:prefLabel "deposición por oxidorreducción"@es, "dépôt par oxydoréduction"@fr, "electroless plating"@en ;
  a skos:Concept .

nht:-RGK996LJ-R
  skos:prefLabel "SSMBE"@en, "método SSMBE"@es, "méthode SSMBE"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-T118W56Q-T
  skos:prefLabel "heat resisting alloy"@en, "aleación refractaria"@es, "alliage réfractaire"@fr ;
  a skos:Concept .

nht:-CRSCVD49-T
  skos:prefLabel "litografía por rayos X"@es, "X-ray lithography"@en, "lithographie RX"@fr ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "frittage par décharge plasma"@fr, "spark plasma sintering"@en, "sinterización por chispa de plasma"@es ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "método PECVD"@es, "PECVD"@en, "méthode PECVD"@fr ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "HDDR process"@en, "procédé HDDR"@fr, "procedimiento HDDR"@es ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "lithographie par nanoimpression"@fr, "litografía por nanoimpresión"@es, "nanoimprint lithography"@en ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "cathodic sputtering"@en, "pulverización catódica"@es, "pulvérisation cathodique"@fr ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "método del cristal giratorio"@es, "rotating crystal method"@en, "méthode du cristal tournant"@fr ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "deposición en fase líquida"@es, "liquid-phase deposition"@en, "dépôt en phase liquide"@fr ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "croissance en gel"@fr, "gel growth"@en, "crecimiento en gel"@es ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "tecnología de semiconductores"@es, "technologie des semiconducteurs"@fr, "semiconductor technology"@en ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "insulation technology"@en, "tecnología de aislamiento"@es, "technologie d'isolation"@fr ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "fijación de pastilla"@es, "fixation de pastille"@fr, "wafer bonding"@en ;
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  skos:prefLabel "synthése mécanochimique"@fr, "mechanochemical synthesis"@en, "síntesis mecanoquímica"@es ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "deposición por inmersión"@es, "dépôt par immersion"@fr, "dip coating"@en ;
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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "crecimiento cristalino en gel"@es, "croissance cristalline en gel"@fr, "crystal growth from gel"@en ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "dépôt physique en phase vapeur"@fr, "deposición física en fase vapor"@es, "physical vapor deposition"@en ;
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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "ion-beam lithography"@en, "lithographie par faisceau d'ions"@fr, "litografía por haz de iones"@es ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "litografía"@es, "lithography"@en, "lithographie"@fr ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "fresado"@es, "fraisage"@fr, "milling"@en ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "epitaxia de gotitas"@es, "droplet epitaxy"@en, "épitaxie gouttelette"@fr ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "condensación por haz iónico"@es, "ion-beam condensation"@en, "condensation par faisceau ionique"@fr ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "sinterización en vacío"@es, "frittage sous vide"@fr, "vacuum sintering"@en ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "piling"@en, "empilage de pièces"@fr, "pila de piezas"@es ;
  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "método fotoquímico"@es, "méthode photochimique"@fr, "photochemical method"@en ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "dépôt chimique en phase vapeur assisté par filament chaud"@fr, "deposición química en fase vapor de hilo caliente"@es, "hot-filament chemical vapor deposition"@en ;
  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  a skos:Concept .

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  skos:prefLabel "deposición al vacío"@es, "vacuum deposition"@en, "dépôt sous vide"@fr ;
  a skos:Concept .